旋转靶材

产品中心 > 溅射靶材 > 旋转靶材

旋转靶材

根据客户要求生产不同形状和不同规格的(高密度,低杂质,低氧)的靶材产品,主要运用于TP平面显示、装饰镀色、镀膜玻璃、光伏、光学镜片镀膜及电子行业等。

产品工艺:真空喷涂
产品特点:真空喷涂工艺相对比大气工艺的,产品加工难度更大,但是品质更高,纯度更高,密度更大,含氧量更低,杂质含量更低。更适用于高品质要求的溅射镀膜产品生产。
产品尺寸:按照客户要求定做。
价格: 0.00
上一个: 铬靶(Cr)
下一个: 铟锭(In)