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旋转靶材
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旋转靶材
根据客户要求生产不同形状和不同规格的(高密度,低杂质,低氧)的靶材产品,主要运用于TP平面显示、装饰镀色、镀膜玻璃、光伏、光学镜片镀膜及电子行业等。
产品工艺:真空喷涂
产品特点:真空喷涂工艺相对比大气工艺的,产品加工难度更大,但是品质更高,纯度更高,密度更大,含氧量更低,杂质含量更低。更适用于高品质要求的溅射镀膜产品生产。
产品尺寸:按照客户要求定做。
价格:
¥
0.00
产品详细
上一个:
铬靶(Cr)
下一个:
铟锭(In)