硅铝合金靶

产品中心 > 溅射靶材 > 硅铝合金靶
    • 1

硅铝合金靶

Si-Al靶材，Si含量从50%～90%范围内可调控。材料组织均匀性好、致密度高，晶粒细小。

技术参数：采用采用粉末冶金的方法制成，纯度≥99.9%，相对密度大于99%，尺寸根据客户要求定。

主要用途：用于玻璃镀膜、太阳能电池镀膜、触摸屏镀膜、LCD镀膜及半导体行业，电子封装等。
价格： ￥0.00
上一个： 铟锡合金靶
下一个： 溅射靶材
TOP